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高周波基板用密着向上処理

メックフラットボンド 
GTプロセス

GTプロセスの特徴

  • エッチングや表面粗化を伴わないため、処理前後の導体形状変化がほとんどありません。
  • 高周波領域において伝送損失が少ないです。
  • 高周波基板に使用される低誘導電率材料に対して密着性に優れます。

移動通信ネットワークロードマップとメックの技術

移動通信ネットワークの高速化
移動通信ネットワークの高速化のグラフ
表面形状
表面形状の画像
伝送損失
伝送損失のグラフ
  • 協力:福岡大学半導体実装研究所、ふくおかIST三次元 半導体研究センター
ピール強度
ピール強度のグラフ
  • CL-8301は銅表面の一時防錆剤です。
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